硅片回收的再利用情况

其实不用说大家都知道要如何来对硅片回收进行再利用。其实在我们使用硅片的时候往往他会产生比较多的废水，要是我们能够把这个问题解决好的话，那相信我们的硅片回收还能够再进一步。我们还可以对硅片回收进行改造，只是说这个过程可能大家并不是那么的熟悉和了解，但是这些方面的问题我们都能够进一步的去解决和调整。不管进行什么操作我们都应该要明确我们的作业目的和要求，不然的话还是会出现问题的。

单晶硅的提炼：纯度不高的单质硅可用金属镁或铝还原二氧化硅制得，但这是无定形硅。晶形硅则要在电弧炉内用碳还原二氧化硅制得，它可用来生产硅钢片。用作半导体的超纯硅的制法则是先用纯度不高的硅与氯化氢和氯气的混合物作用，制取三氯氢硅，并用精馏法提纯。然后在还原炉内用纯氢将三氯氢硅还原，硅就沉积在用超纯硅制成的细芯上，这样制得的超纯硅称为多晶硅，把它放在单晶炉内，就可拉制成单晶硅，可用作半导体材料，它的来源丰富，价格便宜，大部分半导体材料都用硅

具体流程介绍如下：切片：将单晶硅棒切成具有几何尺寸的薄硅片。此过程中产生的硅粉采用水淋，产生废水和硅渣都可以利用。退火：双工位热氧化炉经氮气吹扫后，用红外加热至300~500℃，硅片表面和氧气发生反应的材料，使硅片技术表面形成二氧化硅再次生产。倒角：将退火的硅片进行修整成圆弧形，防止硅片边缘破裂及晶格缺陷产生，增加磊晶层及光阻层的平坦度。此过程中产生的硅片废水和硅渣。硅片再利用一直秉承“变废为宝、净化环境”的理念，融合专业的服务体系和先进的再加工技术，为国家的环保事业，做出着应有的贡献。

对硅片行业稍微有些了解的人都应该知道，废硅片回收之后是必须要清洗的，而且我们还要对清洗过程给予必要的重视，不能马马虎虎，因为硅片回收清洗的效率将直接影响到器件的成品率、性能和可靠性。下面我们就来了解一下费硅片回收清洗的重要性。

现在人们已研制出了很多种可用于废硅片回收清洗的工艺方法和技术，常见的有：湿法化学清 洗、超声清洗法、兆声清洗法、鼓泡清洗法、擦洗法、高压喷射法、离心喷射法、流体力学法、流体动力学法、干法清洗、微集射束流法、激光束清洗、冷凝喷雾技 术、气相清洗、非浸润液体喷射法、废硅片回收在线真空清洗技术、RCA标准清洗、等离子体清洗、原位水冲洗法等。这些方法和技术现已广泛应用于废硅片回收 加工和器件制造中的废硅片回收清洗。

表面沾污指硅表面上沉积有粒子、金属、有机物、湿气分子和自然氧化物等的一种或几种。超纯表面定义为没有沾污的表面, 或者是超出检测量极限的表面。